Nanoinpresio termikoan (thermal-NIL), inpresio-eredu zurrun bat erabiltzen da —eskuarki silizioa—, eta presioa aplikatzen zaio –10-25 bar ingurukoa– material termoplastikoko geruza fin bati beira-trantsizio tenperatura baino tenperatura altuagoan; hala, materiala jariatu egiten da, eta ereduaren hutsuneak betetzen ditu (2a irudia).>
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La nanoimpresión térmica (thermal-NIL) utiliza un patrón de impresión rígido –generalmente silicio- y se aplica presión –del orden de 10-25 bar- a una capa fina de material termoplástico por encima de su temperatura de transición vítrea, lo que permite que el material fluya llenando las cavidades del patrón (figura 2a).
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